濺射是一種先進的薄膜材料製（zhì）備技術, 它利用離子源產生的離（lí）子, 在真空中加速聚集成高速離子流, 轟（hōng）擊固體表麵, 離子和固體（tǐ）表麵的原子發生動能交換, 使（shǐ）固體表麵的原子離開靶材並沉積在基材（cái）表麵, 從而形成納米或（huò）微米薄膜。而被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料（liào）, 稱為濺射靶（bǎ）材。鎢靶材和（hé）鉬靶材可在（zài）各類基（jī）材上形成薄膜, 這種濺射膜廣（guǎng）泛用作電（diàn）子部件和電（diàn）子（zǐ）產品, 如目前廣泛應（yīng）用的TFT - LCD ( 薄膜半導體（tǐ）管-液晶顯示器（qì）)、等離子（zǐ）顯示屏、無機光發射二極（jí）管顯示器、場發射顯示器、薄膜（mó）太陽能電池、傳感器（qì）、半導體裝置以及具有可調（diào）諧功函數CMOS(互補金屬氧化物半導體)的場效應晶體管柵極等 。
近（jìn）年來，作為LCD(液（yè）晶顯（xiǎn）示)、PDP(等離子顯（xiǎn）示)等平麵顯示器的電（diàn）極和（hé）配線材料的（de）鉬係合金靶越來越受到人們的關注。在TFt-LCD中，柵電極是一個關鍵部（bù）件，以前主（zhǔ）要是用Cr／A1作為柵電極材料，隨著平麵顯示器的大型化和高精度化，對材料的比阻抗要求越來越高，鉬的比阻抗和膜應力僅為鉻的1／2，同時，由（yóu）於鉻在蝕刻過程中會產生六價態Cr，對環境和健康（kāng）有害，因此現在越來越多的（de）公司改用Mo／A1作為柵電（diàn）極材料，這樣對鉬靶（bǎ）材的需求也就越來越（yuè）大。在鉬靶材的應用中，鉬合金的研究也越來越多，為進一步提高純鉬（mù）在耐腐蝕性(變色)和密（mì）著性(膜的剝離)，在鉬中添加V、Nb、W、Ta則會使（shǐ）比電阻、應力及耐蝕性等（děng）各種性（xìng）能（néng）更好。
愛科麥可生產的鉬濺射靶（bǎ）材鉬平麵靶材和鉬旋轉靶材，以配合不同（tóng）型號的磁控濺射設備使用。在使用過程中，鉬旋轉靶材的利用率遠（yuǎn）大於（yú）鉬平麵靶材。因此，鉬（mù）旋轉靶材得到了使用方的青睞（lài）。鉬旋轉靶材（cái）的製（zhì）作分為燒結法（輔以（yǐ）鍛造整形或（huò）熱（rè）等靜壓）、噴塗法、和拉拔法。我公司主要以燒結法生產鉬旋轉靶材，此種鉬旋轉靶材可以達到比較好（hǎo）的性能，但長度受到設備局限較大；噴塗法生產鉬旋轉靶材具有長度不受限（xiàn）製的優勢，但在密度、強度和厚（hòu）度上有瓶頸。拉（lā）拔發生產鉬旋轉靶材在國（guó）外較成熟，是值得我們借鑒（jiàn）的。
由於使用了熱等靜壓技術，愛科麥生產的鉬靶（bǎ）材的密度接近理論密度，其組織均勻性及純度等（děng）指標均（jun1）受到了客戶好評。
衡量靶材的質量主要因素有 純（chún）度（dù）、致密度、晶粒（lì）尺寸及分布等。在這（zhè）些方麵，愛科麥投入了大量的資金和精力進行研發並取得了顯著成效（xiào）。並形成了具有以下特點的生產工藝（1）選擇高純鉬粉作為原料; ( 2)獨有的成形燒（shāo）結技術, 以保證靶材的低孔隙率, 並控製晶粒度; ( 3)製備過程嚴格控製雜（zá）質元素的引入（rù）。（4）大尺寸鎢鉬材料的細晶軋製技術。（5）對部分高要求產（chǎn）品采用熱等靜壓方（fāng）法，*大程度地獲得了靶材的良好性能。如此方法製得的鉬铌靶材獲得了95％～99％的極高密度細晶粒產品。
此外，愛科麥生產近期致力於以下產品的研發並取得了突破：
1.產品大型化 生產出了（le）單張尺寸規格為1 430mm *1 700mm *10 mm適合（hé）於G5代TFT鍍膜設備的鉬及鉬鉭靶材。對於更大的（de）產品減（jiǎn）少了拚接的數量（liàng）。
2.為適應市場（chǎng）提高靶材（cái）利用（yòng）率需求，正（zhèng）在研發製造長度超過3米的（de）燒結旋轉靶材，此種方法生產的鉬靶材與噴塗法相比，具有質密的優勢。
3.新興的鎢鈦靶材的研製